2022年5月26日に佐藤 友美 先生 ((地独)神奈川県立産業技術総合研究所)をお招きし手動両面マスクアライナ を使ったフォトレジストの性質、精密露光や現像の原理について講習をしていただきました。また、実際にNANOBICの手動両面マスクアライナ(SUSS MicroTec社製  SUSS MA6 BSA)を使用し実習も行いました。

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